公司簡(jiǎn)介:
aep Technology**材料表面形貌測(cè)試測(cè)量未來。長(zhǎng)期致力于材料表面形貌及外形輪廓的測(cè)試研究,先進(jìn)的三維成像技術(shù)更帶您進(jìn)入材料表面的三維圖像**,觀察表面的每一個(gè)細(xì)節(jié), 生成精密的圖像數(shù)據(jù),揭示材料表面的真實(shí)形貌。結(jié)合精密的分析測(cè)試軟件,為您進(jìn)行的**研究提供援助,協(xié)助您創(chuàng)造更多的價(jià)值。
產(chǎn)品介紹:
NanoMap系列產(chǎn)品可廣泛的應(yīng)用于材料科學(xué)、薄膜涂層、生物、化工、石油、微電子、微型傳感器、半導(dǎo)體材料、自動(dòng)控制、航空航天、汽車工業(yè)及機(jī)械工具的材料研究和開發(fā)。NanoMap - D產(chǎn)品兼?zhèn)浣佑|式(探針掃描輪廓儀)及非接觸式(白光干涉輪廓儀)的優(yōu)點(diǎn)于一身的三維表面形貌測(cè)量設(shè)備。適用全材料體系測(cè)量,幾乎可以接納任何材料表面,包括水、油到碳。
應(yīng)用:
三維表面輪廓測(cè)量和粗糙度測(cè)量, 即適用于精密拋光的光學(xué)表面也可適用于質(zhì)地粗糙的機(jī)加工零件。
薄膜和厚膜的臺(tái)階高度測(cè)量。
劃痕形貌, 磨損深度、寬度和體積定量測(cè)量。
空間分析和表面紋理表征。
平面度和曲率測(cè)量。
二維薄膜應(yīng)力測(cè)量。
微電子表面分析和 M E M S 表征。
表面質(zhì)量和缺陷檢測(cè)。
環(huán)境要求:
濕度: 10 - 80% ,相對(duì)濕度,無冷凝
溫度: 65 - 85華氏度(△ T < 1 度/ 小時(shí))
電源要求: 110 / 240 V ,50 / 60 Hz
高清圖像
2維、3維的直方圖等視圖
白光干涉可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件,通過設(shè)置一些選項(xiàng)、可以得到客戶需求的的曲線、標(biāo)繪、視圖(例如直方圖及雷達(dá)圖等)
| 招標(biāo)產(chǎn)品 | 品牌/型號(hào) | 招標(biāo)單位 | 中標(biāo)單位 | 中標(biāo)價(jià)格 | 中標(biāo)日期 |