細(xì)胞培養(yǎng)皿的**方法是使**在培養(yǎng)基中生長(zhǎng)繁殖，細(xì)胞培養(yǎng)皿的**方法以獲得大量菌體的一種常用方法。其原理是采用物理、化學(xué)或生物學(xué)等手段，殺死或抑制微生物的生長(zhǎng)和繁殖過(guò)程，以達(dá)到無(wú)菌的目的。常用的有高溫**法、干熱**法和輻射**等方法。

高溫**：將經(jīng)過(guò)預(yù)熱的器皿放入沸水中煮15～20min或用火焰直接燒灼5～10min即可達(dá)到目的；也可用微波輻照進(jìn)行**；還可利用紫外線對(duì)空氣及物體表面的輻照來(lái)殺死**；另外還有超高溫處理的方法。

干熱處理：將經(jīng)處理的器皿置于100°C左右的干燥箱中烘干3～7d即可達(dá)到目的。

輻射**：主要是利用γ射線、X射線等進(jìn)行**作用。γ射線主要用來(lái)殺滅芽胞和非芽孢性微生物，但易引起DNA損傷而導(dǎo)致突變；細(xì)胞培養(yǎng)皿的**方法而X線則主要用于破壞細(xì)胞的染色體結(jié)構(gòu)并使其死亡，但對(duì)**無(wú)作用力。因此一般只用于需較長(zhǎng)期保存的菌種培養(yǎng)基的制備上。

（1）高壓蒸汽**法將待處理的器皿放在密閉的高壓蒸鍋中蒸30min左右即可達(dá)到效果；

（2）干熱處理用潔凈的鐵鍋或不銹鋼容器盛裝水或其他液體后置于爐火上烘烤**100°C以上；

（3）輻射**在真空條件下把需要處理的物品放置于鈷源燈下照射數(shù)小時(shí)；

（4）其他如微波輻照等也是較好的處理方法.

（1）高壓蒸氣壓力要足夠大氣壓應(yīng)保持在0.1MPa以上；

（2）時(shí)間不宜太長(zhǎng)一般為30～60min左右；

（3）溫度不宜太高一般不超過(guò)100°C；

（4）防止**注意**操作